轨道离散度调控原子级分散催化剂吸附趋势
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轨道离散度调控原子级分散催化剂吸附趋势
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AI 综述
密度泛函理论计算显示,金属单原子合金与TM-N4-Gr两类原子级分散催化剂上,C、N、O的吸附能极小值都遵循共同的十电子计数趋势,原因是掺杂剂与吸附物杂化态按分子轨道方式填充。 轨道离散度是决定该趋势表现的关键:TM-N4-Gr中定域的d态使成键态与反键态更分明,电子数超过最优值后对电子填充更敏感;金属载体中的电子离域则使这一响应趋于平缓。
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最新进展11月5日 20:01
轨道离散度调控原子级分散催化剂的电子计数吸附趋势报道时间线
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11月5日
- Journal of the American Chemical Society轨道离散度调控原子级分散催化剂的电子计数吸附趋势
密度泛函理论计算表明,金属单原子合金与TM-N4-Gr两类原子级分散催化剂上C、N、O吸附能极小值均呈现共同的十电子计数趋势,源于掺杂剂-吸附物杂化态的分子轨道式填充。轨道离散度是调控该趋势表现的关键因素:TM-N4-Gr中定域d态使成键与反键态更分明,超出最优电子数后对电子填充更敏感,而金属载体中的电子离域则平滑了这一响应。
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