热解光刻胶作为灰度光刻连续调掩模

通过热解多光子光刻制备的2.5D光刻胶结构，可制得连续调光刻掩模/掩模版，图案厚度从光刻胶态的微米级致密化至碳态的纳米级。热解图案虽发生显著纵向收缩，但保持与基底的粘附并维持横向图案保真度，仅存在系统性面内膨胀。该无定形碳化学惰性且力学稳健，支持重复曝光与掩模清洗，将直写技术的一次性聚合物图案转化为可重复使用的光学掩模。