邻位桥接多孔光催化剂提升C–N偶联产率
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邻位桥接多孔光催化剂提升C–N偶联产率
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AI 综述
研究者用芳烃-全氟芳烃(AP)结构设计构建4CzIPN衍生的多孔光氧化还原聚合物,以邻、间、对位联苯桥连接咔唑与全氟咔唑单元,考察连接几何对局部静电和催化活性的影响。 在0.2 mmol反应规模、0.2 mg光催化剂条件下,邻位桥接的o-CBCP以较好产率得到Ni/光氧化还原C–N偶联产物,而无AP结构的对照P(4Cz)仅得痕量产物。KPFM测得o-CBCP、m-CBCP、p-CBCP和P(4Cz)的光致接触电势差位移分别为27.1、18.3、5.0和4.3 mV;在425 nm蓝光LED下,o-CBCP表面光电压响应更强,拟合中频电阻最低。
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最新进展10月31日 12:01
芳烃-全氟芳烃设计调控多孔有机光催化剂局部静电,邻位桥接提升Ni/光氧化还原C–N偶联产率报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
10月31日
- Journal of the American Chemical Society精选芳烃-全氟芳烃设计调控多孔有机光催化剂局部静电,邻位桥接提升Ni/光氧化还原C–N偶联产率
研究者以芳烃-全氟芳烃(AP)结构设计构建4CzIPN衍生的多孔光氧化还原聚合物,用邻、间、对位联苯桥连接咔唑与全氟咔唑单元。KPFM测得o-CBCP、m-CBCP、p-CBCP和无AP对照P(4Cz)的光致接触电势差(CPD)位移分别为27.1、18.3、5.0和4.3 mV,o-CBCP在425 nm蓝光LED下的表面光电压响应更强、拟合中频电阻最低。
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