构象锁定π桥交联剂实现量子点无损光刻

Advanced Functional Materials 论文作者团队提出一种构象锁定的 π 桥交联剂设计，以氟代苯基（F1）和联苯（F2）为模型体系，考察构象调控如何影响量子点光刻图案化。作者称，F2 在抑制分子扭转的同时保持辛烷溶解性，实现 12,700 PPI 的高保真光刻图案。 据该论文，F2 延长的 π 共轭使其摩尔消光系数达到 77,598 L mol⁻¹ cm⁻¹，将所需紫外曝光剂量降至 2 mJ cm⁻²；在 1,000 cd m⁻² 下，器件寿命（T95）由 421 小时延长至 2,324 小时。上述性能均为作者报告的结果。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。