模板光刻制备可热调谐Ge超表面用于中红外指纹检测
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模板光刻制备可热调谐Ge超表面用于中红外指纹检测
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AI 综述
Advanced Functional Materials 论文作者报告了一种用模板光刻规模化制备的锗（Ge）柱超表面阵列，用于中红外分子指纹识别。该阵列支持偏振不敏感的 Mie 共振，通过几何缩放使共振覆盖 950–1700 cm⁻¹ 的分子指纹区。 作者称，借助 Ge 折射率的热调制，可在制备后于 300–500 K 范围内以约 0.18 cm⁻¹ K⁻¹ 的速率动态调谐共振。
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最新进展10月26日 14:50
基于模板光刻的可规模化制备热可重构 Ge 超表面用于中红外分子指纹识别报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月26日
- Advanced Functional Materials基于模板光刻的可规模化制备热可重构 Ge 超表面用于中红外分子指纹识别
采用模板光刻规模化制备大面积 Ge 柱超表面阵列，支持偏振不敏感的 Mie 共振，几何缩放使共振覆盖 950–1700 cm⁻¹ 分子指纹区，并借 Ge 折射率的热调制在 300–500 K 内以约 0.18 cm⁻¹ K⁻¹ 速率后制备动态调谐共振。
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