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多孔 C3N5 纳米片 vacancy–掺杂协同工程实现高效激子解离与 ROS 生成
Synergistic Vacancy–Doping Engineering in Porous C 3 N 5 Nanosheets for Efficient Exciton Dissociation and ROS Generation
AI 导读
酸-水热插层结合热重构制备的氮空位与氧掺杂共修饰多孔 C3N5 纳米片(CN-580)比表面积达 66.95 m²/g,为原始 C3N5 的 6.5 倍。氧掺杂诱导局域电荷极化并建立内建电场,将激子结合能从 62.91 meV 降至 47.42 meV;氮空位提供 O2 吸附与活化位点。
图表、补充材料与最终表述以原文为准。阅读原文
来源:Small · doi.org